Nabata na webụsaịtị anyị!

Ígwè

Ígwè

Nkọwa dị mkpirikpi:

Otu MeTarget Sputtering
Usoro ọgwụ Fe
Ihe mejupụtara Ígwè
Ịdị ọcha 99.9%,99.95%,99.99%
Ụdị Efere , Kọlụm Ezubere , arc cathodes , emebere ahaziri ahazi
PUsoro mmeghari Ịgbaze Vacuum
Nha dị L4000mm, W300mm

Nkọwa ngwaahịa

Mkpado ngwaahịa

Ígwè ígwè na-acha ntụ n'ọdịdị ya na ọ na-esikwa ike ma na-esi ike.Ọ nwere ebe mgbaze nke 1535°C yana njupụta nke 7.86g/cm3.A na-ejikarị ya eme ihe n'ịcha ngwá ọrụ, ụgbọ ala na akụrụngwa igwe.Ígwè bụ ihe dị mkpa maka mmepụta ọbara maka ike ya ibu oxygen n'ime ọbara.Enwere ike iji ebumnuche ịgbasa ígwè mee ihe n'ịmepụta ọkwa maka semiconductor, ngwaọrụ nchekwa magnetik na mkpụrụ ndụ mmanụ.

Ígwè dị ọcha dị elu bụ ihe dị mkpa maka ngwaọrụ nchekwa magnetik, isi ndekọ magnetik, ngwaọrụ fotoelectric, na sensọ magnetik.

Ihe ndị pụrụ iche bara ọgaranya bụ onye nrụpụta nke Sputtering Target ma nwee ike imepụta ihe na-agbapụta ígwè dị ọcha dị ka nkọwa ndị ahịa si dị.Maka ozi ndị ọzọ, biko kpọtụrụ anyị


  • Nke gara aga:
  • Osote: